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C60-20S 離子源系統雖然所有離子束都會濺射或蝕刻，但我們的一些系統的表面是專為高效和快速濺射而設計的。濺射光束有三個特點：高電流、大光斑尺寸和寬視場。這些特性的結合意味著它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子，以優化蝕刻速率。

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小測量和內置樣本電流成像系統，以幫助您充分利用實驗。

GCIB-40 離子源系統是一種40 kV氣體團簇離子束，產生團簇離子聚焦束，用于需要對分子離子敏感的分析應用。GCIB在較大程度地減少碎片和從表面去除完整分子方面具有單獨的的能力。在40千伏電壓下工作的GCIB 40提供了優異的電離產率，進一步增強了分子信號。

GCIB-70 離子源系統是一種70 kV高性能氣體團簇離子束，可產生高度聚焦的團簇離子束，用于高分辨率成像SIM，具有沒有可以比較的的靈敏度。在SIMS中使用氣體團簇束的好處現在已得到充分證實；高質量團簇在濺射有機、生物和聚合物材料時非常有效，可以產生高產量的完整分子離子。